
제품설명
PECVD의 방법으로 증착된 비정질실리콘(a-si)박막은 10~15% 내외의 수소함량을 가진다.
결정화 공정 시 기포생성으로 기판에 손상을 주어 큰 손실을 가져오게 하므로 수소를 이탈시켜 손상을 방지하는 탈수소화 공정에 적용한다.
특징
- H₂ < 1% , 기판훼손 방지
- 짧은 공정시간, 높은 냉각속도
- 고온&고속 공정으로 고생산성
- 온도 균일도 (챔버간, 기판간)
- 고속냉각으로 선수축 제어
- 얇은 기판공정에도 기판왜곡현상 없음
- 대면적 기판 처리 가능 (2~8세대)
적용공정
- LTPS LCD, LTPS AMOLED, Flexible LTPS AMOLED