본문바로가기

公司介绍

CREATING VALUE THROUGH TECHNOLOGIES

现在

Now

现在 ~ 2021

2022

  • 09

    开发半导体设备_LAB

  • 04

    政府项目（半导体） - 开发新一代智能型半导体技术

  • 02

    开发半导体设备_RT-CVD

2022 image

2021

  • 12

    政府项目（国际） - 开发采用激光退火的氧化物半导体制造技术

  • 11

    开发自动真空层压机

  • 10

    在显示器日荣获总统表彰

  • 07

    成立子公司（株）Viatron Systems

2021 image

成长期

Growth Period

2020 ~ 2011

2020

  • 04

    政府项目（溶液型） - 开发电子元件产业技术、构建显示创新工艺平台

2018

  • 12

    荣获7千万美元出口塔奖（韩国贸易协会）

  • 11

    千亿韩元风险企业（中小风险企业部）

  • 10

    水原青年雇佣优秀企业（水原市劳资民政协议会）

2018 image

2016

  • 12

    荣获5千万美元出口塔奖（韩国贸易协会）

  • 11

    成立子公司InterValue Partners（株）

  • 10

    入选2016年京畿道女性雇佣优秀企业

  • 10

    荣获2016年韩国IR大奖优秀奖

  • 03

    6G PI炉设备首次进入中国（BOE）

2016 image

2015

  • 09

    开发并供应氧气控制用LTPS INLINE设备系统

  • 07

    （社）非洲未来财团马拉维教育事业资助协议

  • 05

    开发柔性面板用氧化物半导体薄膜涂层及热处理R2R系统

  • 01

    开发柔性面板用TFT背板涂层设备

2015 image

2014

  • 12

    荣获2014年京畿风险企业协会及产业通商资源部奖

  • 11

    开发并供应Max CAPA Batch Type高温热处理系统

  • 03

    在第48届纳税人日荣获“模范纳税人”表彰（国税）

  • 03

    荣获诚实纳税人京畿道知事表彰（地方税）

2014 image

2013

  • 11

    荣获2千万美元出口塔奖（韩国贸易协会）

  • 11

    荣获风险产业发展京畿道知事功劳表彰

  • 06

    总公司及工厂搬迁至新址（水原市古索洞水原产业3园区）

  • 06

    荣获“第六届韩国科斯达克大奖”最佳新一代企业奖

  • 05

    入选“2013年World Class 300项目对象企业”

  • 05

    被评为“2013年科斯达克市场隐形冠军”

2013 image

2012

  • 11

    新建工厂开工典礼（水原产业3园区）

  • 10

    入选KB Hidden Star 500

  • 05

    在科斯达克交易所上市

  • 02

    开发第8代高性能玻璃基板制造工艺（预压）

2012 image

2011

  • 10

    荣获风险企业知识经济部长官表彰（金亨竣代表理事）

  • 09

    供应第8代AMOLED用SGS晶化INLINE设备系统

  • 06

    AMOLED用LTPS热处理量产设备首次进入中国市场（CENTURY）

  • 04

    开发并供应Flexible E-paper/AMOLED用热处理设备

  • 01

    实现海外销售额1670万美元

2011 image

成立期

Establishment Period

2010 ~ 2001

2010

  • 11

    参与SMD CREPAS项目（先行开发面向大型OLED TV的第8代SGS晶化高温生产性能创新RTA）

  • 11

    中小企业厅附采购条件项目

  • 10

    签署水原产业3园区总公司新工厂用地合同（2230坪）

  • 07

    AMOLED用LTPS热处理量产设备首次进入台湾市场（AUO）

  • 05

    总公司及工厂扩建搬迁（水原市古索洞水原产业1园区）

  • 04

    全球首次开发并供应第8代Oxide TFT热处理设备（WVA）

2010 image

2009

  • 08

    向韩国市场供应AMOLED用LTPS晶化热处理量产设备

  • 06

    入选新能源及可再生能源技术开发项目-薄膜太阳能电池APCVD国策开发项目

2008

  • 12

    采用本公司设备（FE-RTP V900）在全球首次批量生产Non-Laser晶化AMOLED

  • 11

    接受氧化物TFT Active膜热处理系统订单

  • 07

    开发薄膜太阳能电池透明电极沉积用APCVD系统

  • 06

    开发氧化物TFT制作用热处理系统

2008 image

2007

  • 05

    入选优秀风险企业（技术保证基金）

  • 04

    荣获显示设备部门产业资源部长官表彰

  • 04

    入选技术保证基金Kibo A+ Members

  • 02

    供应第4代LTPS快速热处理设备

  • 01

    开发第4代常压金属掺杂设备（型号：AMD-900）

2007 image

2006

  • 12

    获得S-Mark认证

  • 06

    总公司扩建搬迁（首尔加山洞Micro Office大厦）

  • 05

    获得技术创新型中小企业（INNO-BIZ）认证

2006 image

2005

  • 06

    参加21世纪前沿国策项目

  • 03

    供应第2代LTPS快速热处理设备

  • 03

    利用Viatron Non-Laser技术开发大面积AMOLED

  • 03

    开发出第4代LTPS快速热处理设备（型号: FE-RTP V900）

  • 02

    利用Viatron Non-Laser技术开发LTPS LCD

2005 image

2004

  • 10

    参加大面积AMOLED新一代增长动力项目

  • 02

    在全球首次利用Non-Laser技术开发AMOLED新产品

2003

  • 07

    开发第2代LTPS快速热处理设备（型号FE-RTP V400）

2003 image

2002

  • 07

    （株）Viatron附属研究所成立

  • 02

    注册风险企业

2002 image

2001

  • 12

    （株）Viatron成立（首尔衿川区加山洞），创办资本5000万韩元

2001 image