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BATCH

Batch Type 장비는 수직으로 Glass가 일괄적으로 들어가 저온영역(0~450℃)
일괄적으로 다수의 Glass를 처리할 수 있는 시스템입니다.

핵심기술
  • High temperature heat treatment(＜450℃)
  • Excellent temperature uniformity(within ±3℃내)
  • Large area available(2~8G Glass)
  • Hot wall type : Minimize heat loss
  • Low power consumption
  • High productivity
공정소개

탈수소화, 활성화, 수소화, 저온PNL, Contact anneal을 프로세스 합니다.

SPEC

온도 균일도- within ± 3℃

적용분야

LCD TFT

OLED TFT

POLED TFT(LTPO)

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